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Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)

產(chǎn)品簡介

Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)Sensofar 白光干涉S neox儀高數(shù)值孔徑物鏡 的一大核心亮點(diǎn)。在其傳感器頭中,巧妙集成了干涉、共聚焦、Ai 多焦面疊加和膜厚測量等多種*測量技術(shù)。只需輕松點(diǎn)擊一次,系統(tǒng)便能依據(jù)當(dāng)前測量任務(wù)的具體需求,自動智能地切換到較為適配的優(yōu)良技術(shù)。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-07-15
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:96
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Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)

一、干涉測量的物理基礎(chǔ)與系統(tǒng)架構(gòu)

Sensofar S neox 的光學(xué)干涉測量技術(shù)基于邁克爾遜干涉儀原理,通過將光源發(fā)出的光分為參考光和樣品光兩路,利用光程差產(chǎn)生的干涉條紋實(shí)現(xiàn)表面形貌的納米級表征。其核心架構(gòu)包含:

多波長光源系統(tǒng):配備紅(630nm)、綠(530nm)、藍(lán)(460nm)及白光 LED,支持不同波長下的干涉模式切換。白光光源的寬帶特性使其在白光干涉模式下可通過波長掃描實(shí)現(xiàn)測量,避免單色激光的相位模糊問題。

高精度物鏡組:尼康 CF60-2 系列物鏡提供從 2.5X 到 150X 的放大倍率,數(shù)值孔徑(NA)范圍 0.05 至 0.95,確保在不同視場下保持橫向分辨率 0.14μm 的水平。

相位調(diào)制模塊:采用壓電陶瓷(PZT)驅(qū)動參考鏡,實(shí)現(xiàn)納米級精度的相位位移控制,支持相位移干涉(PSI)所需的多幀相位偏移采集。

高靈敏度探測器:1360×1024 像素的 CCD 相機(jī)結(jié)合智能噪聲檢測算法(SND),可在低反射率(0.05%)表面實(shí)現(xiàn)信噪比>30dB 的信號采集。

Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)

二、白光干涉模式的工作機(jī)制

S neox 的白光干涉模式(VSI)采用垂直掃描干涉技術(shù),通過以下步驟實(shí)現(xiàn)表面形貌重建:

波長掃描與相干門控:

白光光源經(jīng)分光鏡分為樣品光和參考光,參考光通過 PZT 驅(qū)動的參考鏡產(chǎn)生光程差。

當(dāng)樣品表面高度變化導(dǎo)致光程差與光源相干長度匹配時,特定波長的光發(fā)生相長干涉,形成強(qiáng)度峰值。

通過垂直掃描(Z 軸步進(jìn))記錄不同高度位置的干涉信號,結(jié)合光譜分析算法解算分布。

技術(shù)優(yōu)勢與參數(shù)指標(biāo):

測量范圍:通過多場拼接技術(shù)實(shí)現(xiàn) 125×75mm 的大范圍掃描,單視場垂直分辨率達(dá) 0.1nm。

表面適應(yīng)性:可測量粗糙度 Ra 0.01μm 至 10μm 的表面,包括半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)鍍膜及微納結(jié)構(gòu)。

快速成像:采用 AI 多焦面疊加技術(shù),對 86° 傾斜表面的掃描速度可達(dá) mm/s 級別,顯著優(yōu)于傳統(tǒng)白光干涉儀。

Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)

三、相位移干涉(PSI)的高精度測量技術(shù)

PSI 技術(shù)通過引入可控相位偏移實(shí)現(xiàn)亞納米級分辨率,其核心流程如下:

相位調(diào)制與圖像采集:

PZT 驅(qū)動參考鏡產(chǎn)生 Δφ=π/2 的四步相位偏移,同步采集四幀干涉圖像。

采用最小二乘法擬合光強(qiáng)表達(dá)式:

I(x,y,k)=A(x,y)+B(x,y)cos[?(x,y)+kπ/2]

其中 A 為背景光強(qiáng),B 為調(diào)制深度,φ 為相位分布。

相位解算與誤差抑制:

通過反正切函數(shù)計(jì)算包裹相位:

結(jié)合空間相位解包裹算法消除 2π 相位跳變,獲得連續(xù)相位分布。

針對環(huán)境振動干擾,S neox 采用擴(kuò)展相移干涉(EPSI)技術(shù),通過同時采集多幀圖像并進(jìn)行時空聯(lián)合濾波,將系統(tǒng)噪聲降至 0.01nm 以下。

典型應(yīng)用場景:

超光滑表面檢測:在 2.5X 低倍率物鏡下實(shí)現(xiàn)大視場(1.2mm×0.9mm)的亞納米級平整度測量,適用于光學(xué)鏡片及半導(dǎo)體晶圓。

動態(tài)過程監(jiān)測:支持實(shí)時相位采集(幀率 9 幀 / 秒),可用于 MEMS 器件的動態(tài)形變分析。

四、八部位移法的相位解算優(yōu)化

八部位移法作為 PSI 技術(shù)的增強(qiáng)算法,通過增加相位偏移次數(shù)提升測量精度,其核心改進(jìn)包括:

相位偏移策略:

采用 Δφ=π/4 的八步相位偏移,采集八幀干涉圖像,光強(qiáng)表達(dá)式為:


 )(k=0,1,...,7)

通過線性組合消除直流分量和二次諧波誤差,提高抗噪聲能力。

相位重建公式:

計(jì)算虛部和實(shí)部分量:


 相位解算:

?=arctan2(Im,Re)

該方法對線性相位誤差的抑制能力比四步算法提升 3 倍,尤其適用于強(qiáng)噪聲環(huán)境。

S neox 的技術(shù)實(shí)現(xiàn):

結(jié)合 EPSI 技術(shù),八部位移法被集成于 SensoSCAN 軟件中,通過智能算法自動選擇最佳偏移步數(shù),在保證精度的同時將采集時間縮短至傳統(tǒng)方法的 1/3。

在汽車發(fā)動機(jī)缸套的激光紋理測量中,該技術(shù)成功解析出 20nm 深度的微結(jié)構(gòu),測量重復(fù)性<0.5nm。

Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)

五、多技術(shù)融合的協(xié)同效應(yīng)

S neox 的優(yōu)勢在于將白光干涉、相位移干涉、共聚焦及多焦面疊加四種技術(shù)無縫集成,實(shí)現(xiàn)全場景覆蓋:

技術(shù)互補(bǔ)機(jī)制:

白光干涉:用于粗糙表面的測量(Ra>0.1μm)。

相位移干涉:用于超光滑表面的高精度分析(Ra<0.01μm)。

共聚焦:提供高橫向分辨率(0.14μm),適用于臨界尺寸測量。

多焦面疊加:通過紅綠藍(lán)三色 LED 交替照明,實(shí)現(xiàn)大斜率(86°)表面的快速掃描。

智能模式切換:

軟件自動識別表面特性,例如在半導(dǎo)體晶圓檢測中,先通過白光干涉確定宏觀形貌,再切換 PSI 模式進(jìn)行局部納米級分析。

在 MEMS 器件檢測中,結(jié)合共聚焦的高分辨率和干涉的高精度,可同時測量結(jié)構(gòu)高度(±10nm)和邊緣粗糙度(Ra 0.2nm)。

Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)

六、工業(yè)級應(yīng)用與性能驗(yàn)證

典型案例解析:

汽車發(fā)動機(jī)缸套紋理評估:采用白光干涉模式掃描激光加工的微結(jié)構(gòu),結(jié)合八部位移法解算,成功量化凹槽深度(20±0.5μm)和寬度(50±1μm),為摩擦性能優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支持。

半導(dǎo)體晶圓平整度檢測:在 2.5X 物鏡下對 300mm 晶圓進(jìn)行全域掃描,測量結(jié)果與 AFM 比對顯示偏差<0.3nm,滿足 ISO 25178 標(biāo)準(zhǔn)要求。

系統(tǒng)可靠性保障:

可追溯性校準(zhǔn):內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)量塊校準(zhǔn)程序,確保縱向精度 ±0.1%,橫向尺寸<0.3%。

環(huán)境適應(yīng)性:采用主動隔振平臺和溫度補(bǔ)償算法,在車間環(huán)境(振動<5μm,溫度波動 ±2℃)下仍能保持測量穩(wěn)定性。

Sensofar 表面輪廓儀 S neox的光學(xué)干涉技術(shù)

七、總結(jié)與技術(shù)展望

Sensofar S neox 通過集成多種干涉技術(shù),構(gòu)建了從納米到毫米級的全尺度表面表征體系。其白光干涉模式解決了測量的難題,相位移干涉實(shí)現(xiàn)了超光滑表面的亞納米級精度,八部位移法則進(jìn)一步提升了復(fù)雜環(huán)境下的測量可靠性。隨著人工智能算法的深度融合,未來 S neox 有望在實(shí)時在線檢測、動態(tài)過程監(jiān)測等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)新突破,持續(xù)推動精密制造與*材料研究的發(fā)展。

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